重大光学工程、光刻机系统以及强激光武器等，对光学平面、球面及非球面元件的超精密加工提出了较强的需求，传统抛光技术已经难以满足这些元件的加工质量要求。一种新型的抛光技术、光学制造界的革命性技术——磁流变抛光技术日趋成熟。

磁流变抛光技术利用磁流变抛光液的可控流变特性进行加工，目前已经实现大口径平面抛光工艺的工程突破，完美解决了传统抛光技术难以达到的质量要求。

在抛光机的设计方面，攻克了高精度、高刚度与高动态响应床身、高强度精密边缘散射电磁场装置、高黏度大比重流体循环系统以及多运动量、多物理量与专用工艺过程的集成控制等关键单元模块的工程研制技术，成功构建了一套以“柔性磨头”为核心的五轴四联动大口径工程样机，具备了平面、球面、非球面及自由曲面的数控加工能力，并具备材料高效去除、面形精度收敛以及表面纹理控制3种工艺模式，其最大平面加工尺寸为1.2 mx1.2 m，最大球面及非球面加工口径为φ700mm。

-磁流变抛光机-

在抛光液的制备方面，采用以颗粒改性为主、基液改性为辅的技术路线，解决了复合铁粉的制备、水基载液的改性、抛光粉的优选以及抛光液的稳定性优化等关键技术难题，成功地制备出满足BK7和K9等软质玻璃材料超精密抛光要求的水基磁流变抛光液。

-超光滑磁流变抛光液-

在工艺软件开发方面，基于Preston去除模型，建立了多轴联动工艺控制模型，解决了去除函数提取、驻留时间求解、面形模拟仿真以及抛光轨迹规划等关键技术难题，开发了一套平面抛光专用工艺软件，可与主流的WYKO、ZYGO等检测系统以及先进的PMAC、SIEMENS等数控系统兼容。

卓精艺磁流变抛光机，可实现超光滑、超精密抛光，加工精度：纳米精度加工，RMS 1/100λ(λ=632.8nm)；表面粗糙度：优于0.5nm RMS；可对石英、微晶、ULE、BK7、单晶硅、碳化硅、蓝宝石、硫化锌等材料，实现平面、球面、二次曲面、高次非球面、自由曲面加工。如果您对我们感兴趣，欢迎来电咨询！