上一篇文章结尾我们提到：磁流变抛光技术是一种可控柔体确定性抛光技术，可以实现对晶体的大口径非球面抛光加工。

-大口径2m磁流变抛光机加工大口径非球面镜-

但磁流变抛光技术应用于大口径非球面的工程制造，还需要进一步研究，要实现对以下4点的突破：

1、进一步提高去除函数的去除效率。

对于大口径非球面尤其是2m甚至4m的光学表面，材料去除量大，加工周期长，需要进一步提高磁流变抛光的材料去除率，即提高去除函数的体积去除率，以缩短加工周期，降低制造成本。

2、进一步提高去除函数的稳定性。

大口径非球面加工时间长，往往需要多个工作日进行加工，而且磁流变液有一定的寿命需要更换，因此必须保证去除函数具有很好的稳定性，这样才能避免高精度加工时全口径面形误差频段分布一致，不出现分段现象。提高去除函数的稳定性需要从磁流变抛光循环系统、磁流变液性能、机床重复精度和环境参数控制都多方面入手，系统研究。

3、拓展MRF的应用范围。

MRF主要应用在光学加工的精抛光阶段，可以尝试使用在粗抛光甚至研磨阶段；MRF不仅用在传统光学材料上，还可以应用在金属等其他材料的抛光中。将MRF投入到更广泛的工程应用中，是下一步需要研究的。

4、建立工艺规范，操作简单化。

建立磁流变抛光工艺规范，工艺软件集成化，实现磁流变抛光过程的简单化操作，使之成为一种普遍的光学车间加工工艺。

以上几点，是磁流变技术得以进一步提升的关键，实现这些，将使得磁流变抛光能完成对更大口径光学元件的加工，同时，加工精度也将比现阶段更为精确、可控。

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