现代光学系统对光学元件的制造精度、批量和进度都提出了更高的要求。我国的惯性约束核聚变工程，需要在5~10年的时间内完成大批量不同口径的光学平面、曲面零件的高精度抛光和检测；对于大口径的光学元器件，要求其面型精度达到λ/10~λ/20、表面粗糙度Ra<5nm（甚至Rq优于0.5nm）。

这些高精度的光学零件加工特别是大口径非球面超精密、超光滑以及高效的抛光，需要关键的抛光设备和抛光材料。磁流变抛光在光学微纳制造方面是公认的革命性技术，能快速获得数十纳米以下的面形精度（PV）和1nm以下的表面粗糙度（Rq）。同时具有抛光斑和去除函数稳定、去除量确定、去除率高、几乎无亚表面损伤、适合于复杂面型抛光等优点。

-磁流变抛光机抛光KDP晶体-

在磁流变抛光过程中，抛光粉作用于工件表面的法向力（大约1×10-4mN）远小于化学机械抛光（CMP）的法向力（5~200mN）。所以，磁流变抛光主要是在切向方向实现材料的去除，在抛光过程中不引入新的亚表面损伤。

在磁流变抛光技术中，实现工艺和抛光液的有效协同，是获得良好抛光效果的关键。磁流变抛光液是抛光的工作介质（工具），是磁流抛光技术的核心之一，直接决定着抛光过程的材料去除和抛光质量。

明白了吗？这就是磁流变抛光液如此重要的原因。

卓精艺磁流变抛光液，具有无毒、无害、无挥发、稳定性好的特性，可用于单晶硅、多晶硅等晶体材料和碳化硅、陶瓷、蓝宝石等硬脆材料的磁流变修形抛光。如果您对我们感兴趣，欢迎来电咨询！