从之前的两篇文章我们可以看到，在磁流变技术的早期发展时，国外一直处于主导。那么国内是何时开始研发与应用的呢？

过去，我国在磁流变抛光技术的研究方面与美国存在着相当大的差距，但新世纪以来，通过不断的探索、研发，我们在该项技术上已经取得了不小的成果。

2000年，张峰、余景池首次将磁流变应用于国内光整加工技术的研究，对加工工艺和相关理论进行了初步研究。

2004年，李圣怡等提出了确定性磁流变抛光技术，并对平面玻璃镜进行了光整加工。

2004年，孙桓五提出了液体磁性磨具光整加工法，实现了对回转类曲面工件的加工。

2005年，程灏波、冯敬之等人提出了一种特殊的磁性轮式磁流变抛光技术，该方法对光学平面加工的磁场多变性提供了参考方案。

2007年，王伟、刘卫国等人提出了基于“面接触”式抛光思想的磁流变抛光技术，初步设计了试验台对平面玻璃工件进行了加工。表面粗糙度值从300nm左右降到了1nm左右。

2013年1月中旬，国防科大精密工程创新团队经过20多年顽强拼搏，突破重重技术瓶颈，自主研制出磁流变、离子束两种超精抛光装备，创造了我国光学零件加工亚纳米的“中国精度”奇迹。使我国光学主动化加工技巧及工艺一跃进入世界先进程度，成为继美、德之后第三个控制高精度光学零件制作加工技巧的国家。

-铝反射镜磁流变加工-

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