上一篇文章末尾我们提到了超光滑超精密抛光技术可以分为两类，一类是接触式抛光，一类是非接触式抛光。今天我们主要来看第一类。

接触式抛光主要包括古典抛光、CCOS小磨头抛光（也叫数控小工具抛光）、应力盘抛光、浴法抛光(BFP)、浮法抛光、磁流变抛光等。

-卓精艺超光滑表面抛光机，粗糙度优于0.1nm-

接触式抛光是由传统的抛光盘模式发展而来，与传统的抛光相比，采用数字控制（CNC)机床 运行、新型的抛光工具（如应力抛光盘、磁流变抛光盘）与纳米级超细抛光剂。

CCOS小磨头抛光技术是用计算机数控小工具抛光模（抛光头）对玻璃表面进行抛光，根据所建立的数学模型，通过抛光头在玻璃表面上的运动途径，相对应力与驻留时间来控制抛除量，可以制备大中型非球面光学零件。此种抛光设备由抛光机床、实时干涉测量以及数字控制系统（CNC) 组成。我公司制造的数控小工具抛光机，抛光效率明显提高。采用此技术，抛光望远镜镜片，强激光光学元件、高能激光单晶硅元件等，表面粗糙度可达到0.5nm。

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应力抛光盘技术(stressed lap polishing)是用大尺寸刚性材料作为基盘，在周边可变压力作用下，盘的表面可随时改变所需要的面形。在抛光过程中，安装于应力盘上驱动器根据计算机发出的 变形盘相对镜面位置和方向的指令，改变边缘力矩的大小，使应力盘始终与被抛光玻璃的非球面光学表面相匹配。美国亚利桑那大学Steward天文台大尺寸镜片实验室用应力盘抛光技术加工大尺寸高陡度非球面反射镜，表面粗糙度达到全口径20nm。

浴法抛光(Bowl-Feed Polishing)简称BFP方法，也称水中抛光法，玻璃和抛光模同时都浸在抛光液的抛光方法，抛光时产生摩擦热均可扩散到抛光液中，不致使玻璃和抛光工具的温度升高很多，玻璃的热变形和抛光模的塑性流动达到极小，从而可用纯浙青作为抛光模对玻璃进行抛光，使玻璃 表面非常光滑。抛光时采用极细的抛光粉和很低的抛光压力，抛光最后阶段还可用稀释的抛光液或清水抛光，均有利于降低表面粗糙度。以超细氧化铝粉为抛光剂，采用浴法抛光工艺，不同品种玻璃抛光后的粗糙度分别为：火石玻璃(F4)0.76nm，硼桂酸盐玻璃(Duran50)0.16nm，溶融石英玻璃0.34nm。

-卓精艺小工具数控抛光机（小磨头）浴法抛光光学元件-

浮法抛光(float polishing)指抛光模与被抛光玻璃之间保持有厚度数倍于抛光粉颗粒尺寸的液 体层；换言之，玻璃在几微米厚的抛光液薄层上被抛光，抛光模采用硬度比平常用浙青或树脂更高的材料如锡制成，玻璃与抛光模之间相对速度很大，达1.5-2.5m/s;而压力为70?500Pa，较一般抛 光盘压力高十几倍；抛光剂用CnOs或MgO。抛光过程中，抛光剂在离心力作用下，在液体膜内沿 径向不断碰撞玻璃，以原子或分子级不断抛除玻璃。Corning公司用浮法抛光对溶融石英玻璃(ULE)和Schott公司的低膨胀微晶玻璃(Zerodur)进行抛光，表面的粗糙度都小于0.2nm。

磁流变抛光(magnetorhelogicalfinishing)是利用磁流变抛光液在磁场中的磁流变形成柔性抛 光模，对玻璃表面进行抛光。磁流变抛光液为黏塑性介质，当按一定的运动规律，连绵不断切过玻璃表面时，磁流变抛光液中的抛光粉，借助玻璃与磁流体之间的压延与剪切变形力实现对玻璃表面的抛除。采用磁流变抛光方法在不到2min的抛光时间，粗糙度小于0.5mm。

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