导语：磁流变抛光技术是20世纪80年代国外发展起来的一种新兴的高端光学制造技术，具有很多传统手工、机械抛光所无法达到的优点，因而取得了巨大发展。

随着现代科学技术的发展，光学系统发展呈现井喷式发展，对于其中的光学元件也提出了越来越高的要求。例如在导航、卫星地图、半导体、光刻机等国家重大领域以及手机摄像头、单反相机等民用产品，光学元件不仅需要面形精度高、中高频误差好以及形位误差可控等控形要求，而且需要表面质量好、亚表面损伤小等控性要求，对于光学制造提出了严峻的挑战。

目前我国的光学制造加工大部分还处在手工抛光、传统机械抛光往数控数字化加工过渡的阶段，存在精度低、表面粗糙、效率低、产能低及批量化程度低的问题。

目前广泛应用于高精度光学镜面抛光的主要数控抛光方法包括：小磨头抛光（ CCOS）、应力盘抛光（SLP）、液体射流抛光（ FJP）、离子束抛光（IBF）、气囊抛光（Bonnet Polishing）和磁流变抛光（MRF）。

磁流变抛光原理示意图

磁流变抛光技术是20世纪80年代国外发展起来的一种新兴的高端光学制造技术，利用磁流变液在磁场中的流变性对工件进行抛光，磁流变液进入抛光区后在磁场作用下变成粘塑性的介质，形成“柔性抛光模”与光学零件表面接触时会产生很大的剪切力，从而实现材料的稳定去除，达到抛光、修形的目的，形象比喻成“永不磨灭的砂轮”。替代传统的依赖于人的经验的光学加工方法，能够有效解决光学元件的加工精度高、收敛要求高、表面质量好、亚表面损伤低以及中高频误差可控等需求，成为光学元件高精度、低成本、自动化制造的有效手段之一，应用越来越广泛。

卓精艺磁流变抛光机床

磁流变抛光技术具有应用范围广、亚表面损伤小、加工精度高、面形收敛效率高等特点，具有广阔的发展前景，磁流变抛光技术的主要优点包括：高精度、高稳定性、高确定性、高可预测性、高可重复性和高可复制性。

适用材料：石英、微晶、ULE、BK7、单晶硅、碳化硅、蓝宝石、硫化锌等

适用形状：平面、球面、二次曲面、高次非球面、自由曲面

加工精度：纳米精度加工，RMS 1/100λ(λ=632.8nm)

表面粗糙度：优于0.5nm RMS

由于磁流变抛光技术具有众多优点，磁流变抛光技术取得了巨大的发展，特别是在高精度光学镜面加工中表现出色，磁流变抛光技术已成为高精度光学镜面高效、自动化制造的有效加工方法之一。

卓精艺具有20年的工艺研究和装备研制经验，根据市场发展需求，研发推出应用型磁流变抛光机床，具有供货周期短，性价比高，让企业用得起高端抛光装备，发挥巨大经济效益，助力于光学智能抛光装备应用型推广！

如果您对我们感兴趣，欢迎来电咨询！