研磨和抛光是什么关系？它们与超精密抛光又有什么联系？今天我们从两个方面来了解研磨与抛光的区别，同时了解它们与超精密抛光的联系。

研磨与抛光主要有两大不同：

1、加工方法不同

研磨是指利用涂敷或压嵌在研具上的磨料颗粒，通过研具与工件在一定压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工。

抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法。是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。

2、加工精度不同

研磨主要目的为去除铣磨的损伤层，加工精度可达1微米，表面粗糙度Ra0.63～0.01微米。研磨基本只采用机械的方法，所使用的磨料粒度比较粗，即粒度较大。目前研磨设备主要有单轴机、环抛机、机械臂抛光机和小工具数控抛光机。

-卓精艺小工具数控抛光机（小磨头）研磨光学元件-

抛光以提高工件的面形精度和光滑表面或镜面光泽为目的。通常以抛光盘、抛光轮作为抛光工具，配合抛光垫、抛光液，以达到需要的面形精度和超光滑表面，其加工精度及表面粗糙度远超研磨。目前抛光设备主要有单轴机、环抛机、机械臂抛光机、水射流抛光、小工具数控抛光机（小磨头）、磁流变抛光机。其中，机械臂抛光、水射流抛光、小工具数控抛光（小磨头）、磁流变抛光可加工非球面、自由曲面，磁流变抛光机可实现高精度纳米级加工。

-卓精艺小工具数控抛光机（小磨头）进行抛光修形-

-卓精艺磁流变抛光机进行抛光修形-

其实，对于超精密加工来说，研磨是抛光之前的基础加工，一般我们在对工件进行加工的时候，需要先经过研磨这一步骤，然后进入到后面的抛光步骤。而具体到实际的加工环节，抛光又细分为粗抛、超精密抛光等。

我国的超精密抛光技术正处于蓬勃发展的时期，尤其是CCOS小磨头、磁流变、离子束抛光技术的诞生，将加工精度提升到了纳米级和亚纳米级，表面粗糙度优于0.5nmRMS。

-磁流变抛光机加工高精度大口径非球面-

卓精艺，提供高品质超精密光学智能抛光装备（小磨头、磁流变、离子束、超光滑），可对石英、微晶、碳化硅、单晶硅、硫化锌等材料实现球面、非球面、自由曲面加工，具有20年的工艺研究和装备研制经验。如果您对我们感兴趣，欢迎来电咨询！