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磁流变抛光机床

磁流变抛光机床

磁流变抛光技术是可控柔体确定性抛光技术,应用于光学元件精密、超精密制造,以精确微量确定性去除、高效率获得数十纳米以下高精度面形、纳米级表面质量且近无亚表面缺陷,很好地满足航天、航空和国防等领域光学元件的超精密加工需求。

产品介绍

适用材料石英、微晶、ULE、BK7、单晶硅、碳化硅、蓝宝石、硫化锌等;

适用形状平面、球面的精密研磨和抛光;

加工精度纳米精度加工,RMS 1/100λ(λ=632.8nm);

表面粗糙度优于0.5nm RMS;

产品优势

磁流变抛光机床床身厚重,结构坚固、牢靠、平整性好、稳定性好;主轴、摆轴运转顺滑平稳,稳定性和精度高,震动微小;高稳定抛光,超高表面质量,加工效率和成品率高。

技术参数

项目

ZJY-NCM-600

ZJY-NCM-800

ZJY-NCM-1000

运动轴数

X/Y/Z/A/B六轴六联动 (根据客户需求,三轴、五轴、六轴可选)

加工空间

500×600×240mm

700×800×300mm

1000×800×350mm

驱动形式

伺服电机、直线导轨

重复定位精度

X/Y/Z 优于±5μm A/B ± 20"

X/Y/Z 优于±5μm A/B/± 20"

X/Y/Z 优于±10μm A/B ± 20"

最大运动速度

X/Y/Z6000mm/min A/B/C 20rpm

拋光轮尺寸

50mm/100mm/200mm

100mm/200mm/340mm

200mm/340mm

抛光轮最大转速

750rpm/300rpm

750rpm/300rpm/200rpm

300rpm/200rpm

抛光轮最大跳动

3μm /5μm/8μm

5μm/8μm/20μm

8μm/20μm

流量循环稳定性

2%(4h)

2%(4h)

2%(5h)

粘度循环稳定性

0.5%(4h)

0.5%(4h)

0.5%(4h)

去除函数稳定性

2%(4h)

2%(4h)

2%(5h)

加工精度

批量生产水平:优于1/70λ (λ=632.8nm) RMS
实验室水平:优于1/100λ (λ=632.8nm) RMS

加工案例

高精度超光滑表面双曲柄研抛机