磁流变抛光机床-卓精艺

抛光设备 Product center

服务热线：188-9006-1686

1/1

上一张

下一张

介绍：磁流变抛光技术是可控柔体确定性抛光技术，应用于光学元件精密、超精密制造，以精确微量确定性去除、高效率获得数十纳米以下高精度面形、纳米级表面质量且近无亚表面缺陷，很好地满足航天、航空和国防等领域光学元件...

咨询热线188-9006-1686

在线咨询

产品详情

磁流变 抛光机床: 磁流变抛光技术是可控柔体确定性抛光技术，应用于光学元件精密、超精密制造，以精确微量确定性去除、高效率获得数十纳米以下高精度面形、纳米级表面质量且近无亚表面缺陷，很好地满足航天、航空和国防等领域光学元件的超精密加工需求。

适用材料石英、微晶、ULE、BK7、单晶硅、碳化硅、蓝宝石、硫化锌等；

适用形状平面、球面、二次曲面、高次非球面、自由曲面；

加工精度纳米精度加工，RMS 1/100λ(λ=632.8nm)；

表面粗糙度 优于0.5nm RMS；

磁流变抛光机床确定性抛光；供货周期短；性价比高；高稳定抛光功能头；数控操作简单；稳定的工艺软件；先进的软件算法；去除稳定性好；高表面质量；高效率修形。

磁流变抛光机床

项目	ZJY-NCM-600	ZJY-NCM-800	ZJY-NCM-1000
运动轴数	X/Y/Z/A/B六轴六联动（根据客户需求，三轴、五轴、六轴可选）
加工空间	500×600×240mm	700×800×300mm	1000×800×350mm
驱动形式	伺服电机、直线导轨
重复定位精度	X/Y/Z 优于±5μm A/B ± 20"	X/Y/Z 优于±5μm A/B/± 20"	X/Y/Z 优于±10μm A/B ± 20"
最大运动速度	X/Y/Z6000mm/min A/B/C 20rpm
拋光轮尺寸	50mm/100mm/200mm	100mm/200mm/340mm	200mm/340mm
抛光轮最大转速	750rpm/300rpm	750rpm/300rpm/200rpm	300rpm/200rpm
抛光轮最大跳动	3μm /5μm/8μm	5μm/8μm/20μm	8μm/20μm
流量循环稳定性	2%(4h)	2%(4h)	2%(5h)
粘度循环稳定性	0.5%(4h)	0.5%(4h)	0.5%(4h)
去除函数稳定性	2%(4h)	2%(4h)	2%(5h)
加工精度	批量生产水平：优于1/70λ (λ=632.8nm) RMS 实验室水平：优于1/100λ (λ=632.8nm) RMS