我们在浏览CCOS小磨头、磁流变、离子束抛光机的介绍时，经常会看到超光滑、超精密这样的词语，你知道它究竟是什么意思吗？接下来我们将通过三篇文章详细为大家阐述。今天首先带来第一篇：什么是超光滑、超精密抛光。

玻璃抛光历史悠久，中世纪欧洲制造玻璃镜时，采用了粗磨、细磨和抛光，我国乾隆时期玻璃的抛光质量已很高。

目前除了平板玻璃、器皿玻璃、艺术玻璃应用传统的抛光技术外，先进的光学制造、微光学制作、IT及光电子行业的基片制作均需要超光滑和超精密抛光技术，如平板显示器(FPD) 普通Genii型的粗糙度Ra <20nm，有源矩阵a-SiTFT和P-SiTFT基片玻璃的粗糙度均要求小于5nm。光盘和磁盘基片玻璃要求表面粗糙度为1-6nm，哈勃望远镜的轻型主镜抛光后粗糙度达12nm，这些超光滑和超精密要求，促进了抛光新技术的发展。

超光滑抛光(Super-smoothpolishing)指抛光后表面粗糙度达到纳米级，从零点几纳米到几十纳 米。

超精密抛光(ultra-precisionpolishing)指抛光时精度是分子或原子级的抛除，也就是加工精度为纳米级。

超光滑抛光和超精密抛光是紧密联系在一起的，但也略有区别，超光滑抛光着重于抛光后表面光滑程度，而超精密抛光后的面形达到原设计的精度，两者均可用表面粗糙度来表示。

-卓精艺磁流变抛光机，可实现超光滑、超精密抛光，加工精度：纳米精度加工，RMS 1/100λ(λ=632.8nm)；表面粗糙度：优于0.5nm RMS-

近代的抛光新技术，使加工后玻璃表面粗糙度显著降低，如采用浴法抛光(BFP)，玻璃表面粗糙度可达到 0.27nm，浮法抛光表面粗糙度可小于0.2nm。

超光滑、超精密抛光技术可分为接触式抛光和非接触式抛光两大类型。接触式抛光包括CCOS小磨头抛光（也叫数控小工具抛光）、应力盘抛光、浴法抛光(BFP)、浮法抛光、磁流变抛光等。非接触式抛光主要指电子束抛光、激光抛光和离子束抛光。

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